药群论坛
标题:
FDA关于片剂刻痕注册技术要求的探讨-丁恩峰
[打印本页]
作者:
aiyao
时间:
2018-7-11 09:48 AM
标题:
FDA关于片剂刻痕注册技术要求的探讨-丁恩峰
FDA关于片剂刻痕注册技术要求的探讨-丁恩峰
) B5 j9 z6 C( |( m' y
网上看到的一篇觉得不错和大家分享
; K8 h! J, S/ G( s9 E
c; P5 p3 n8 L/ P( u$ T3 q
[attach]12199[/attach]
7 ~+ ]( z" R9 [" U$ t1 _
3 O" W- i. c3 p2 e3 x t9 l- E% q# ^
【情人节礼物，最新资料】2016.2.14
FDA
对API DMF完整性审核指南终稿及PDA资料
) Q; p3 m3 e8 R9 T
7 O. x) }- |0 ^( ?1 W/ T! d; z
. _/ f/ {. a i; p
! r# n# k7 b. } O; k; I% x9 h! P
2016 年
FDA
新发布指导原则之BE 汇总
! `6 o& o& Z- l; j& t5 \* `
作者:
haixin86
时间:
2021-8-3 04:07 PM
谢谢分享
作者:
冉0507
时间:
2022-3-24 11:03 AM
; ^: X/ r; g4 M
谢谢分享
欢迎光临 药群论坛 (http://www.yaoqun.net/)
Powered by Discuz! X3.2
