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本帖最后由 xiaoxiao 于 2015-12-3 09:00 PM 编辑
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CDE张玉琥老师在《仿制药有关物质研究的特点与思路》一文中提到:
3 G/ \: \, S$ S+ o# N V4.1.2 杂质谱与被仿品一致,但杂质含量超过被仿品
* x9 Q, r2 T' @, K( g& X虽然杂质谱与被仿品一致或杂质种类较被仿品少,没有含量超过鉴定限度的新杂质出现,但一个或多个已知杂质的含量超过了被仿品。这种情况下,应当通过改进完善制备工艺,降低杂质的含量。
( p& e% F3 X( n/ _6 z8 _2 H, m" ]4.1.4 杂质谱与被仿品不一致,且已知杂质含量亦超过被仿品
7 }! h; f4 k5 l6 t对比研究结果若显示杂质谱与被仿品不一致,有含量超过鉴定限度的新杂质,而且已知杂质含量亦超过被仿品,说明仿制品的制备工艺存在较大缺陷,需要对工艺路线、起始原料及中问体质量控制、反应条件控制、精制方法等进行系统的优化改进,降低杂质含量至合理水平。
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